1.相关信息：  

OEMA2011于2011年3月6日在重庆海宇温泉大酒店召开，所有录用文章会后一个月内全部Ei检索；OEMA2012所有录用文章将由AMR出版并将全部EI核心检索。

本次会议的优秀论文经评审并扩展后可以推荐到高级EI源刊（JA类型检索）上发表，预期推荐期刊量为60-80篇。

2.会议情况介绍：  

第二届光、电子、材料与应用国际会议OEMA2012将于2012年5月4日至6日在中国重庆召开，会议得到了湖南工程学院、上海交通大学、河南科技学院、沈阳理工大学与重庆师范大学的相关专家的支持，同时会议还得到了瑞士知名的出版社TTP的大力支持，并将由TTP旗下的国际期刊Advanced Materials Research (AMR) Journal (ISSN: 1022-6680)出版并EI核心检索。

所有投稿稿件请在投稿系统里投稿，文章中不得有中文字符（含图片），文章请严格按模板进行排版。其中AMR的长度为4页到5页，低于4页将不安排发表，超过5页的将加收超页费。

  截止日期
 2011-12-31
 
  录用通知 2012-01-10
 
  注册截止
 2012-01-25

4.主题  

会议征稿范围主要为以下内容，但不仅限于以下内容：

光电子材料和器件

 光学材料和器件

 可持续材料和应用
NEMS / MEMS材料与器件
 电气与电子工程 电子材料与仪器 
建模，仿真与应用
 计算机与通信工程
 人工智能与控制工程

5.注册  

注册的注意事项：

1、请在注册时交汇款凭证的扫描件（PDF或JPG）、终稿（WORD和DPF版本）、注册表、版权页（PDF格式）、学生证明（以学生身份注册的需要）一并发到oema2012@126.com。邮件的标题通常为：oema+编号+注册，附件名分别是oema+编号+汇款凭证，oema+编号+文章终稿等字样。
2、请仔细检查文章的格式是否正确，页数是否符合要求(4-5页，超过页数交超页费)，建议在最后一页多留两行空白，以防止超页.
3、注册后一般一到两天就会有回复，非有特殊原因，不要重复发送注册资料，否则不知哪上版本是正确的。
4、请严格按照附件里关于EI检索对摘要，题目和英文语法的相关的要求对文章终稿进行修改。

如要会议或推荐稿子，请联系QQ：33127615  ，电话：13880243186何老师